创造属于未来的材料, 向可持续为社会贡献的化学企业迈进
提供世界先进半导体 制造过程中所必要的材料
产品介绍
前道光刻材料
用于半导体前道制造工艺的光刻胶,多层硬掩模材料等。
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CMP材料
半导体多层配线形成工程中不可或缺的CMP(化学机械研磨)用材料。
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先进封装材料
用于半导体后道先进封装工艺的厚膜光刻胶、感光性绝缘膜等材料。
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整体方案


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